国際公募展
BEAUTY OF MOKUHANGA:
Discipline & Sensibility
木版画の美：修練と感性
展覧会趣旨
国際木版画会議2017ハワイ地元実行委員会は、国際公募展「Beauty of Mokuhanga: Discipline & Sensibility木版画の美：修練と感性」のテーマで作品を募集します。応募作品は木版画とアーティストブックの２つの部門です。この公募展は2017年ハワイで初めて日本国外で開催される第３回国際木版画会議の中心となる展覧会です。この展覧会の展開を、木版画の伝統に敬意を払いながら祝うべく、時代、場所、世代及び分野等の橋渡しに成るであろう事を念願します。そしてこの会議は、この伝統的な技法の修練、革新的な使用と共に伝統的な木版画独特の感性、持ち味を促進するために主催されます。この展覧会の作品を通して見て、感じて、聴き取る事で木版画の歴史の深さを理解し、世界の芸術界での木版画の研究、習作する事で木版画そのものの感性を高めていって頂きたいと思います。
会場：
ハワイ大学、アート＆アートヒストリー学科/アートビル
2535 McCarthy Mall, Honolulu, HI 96822
+1 808 956 8251 or 808 956 6888 (gallery)
http://www.hawaii.edu/art/
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アートビルはハワイ移民国際カンファレンスセンターから徒歩５分です。
日時：
2017年8月21日（月） – 10月1日（日）
開場時間：
月 – 金の10:00 – 16:00
日 12:00 – 16:00
開場時間（国際会議期間中）:
毎日 10:00 – 16:00
閉会式：
10月1日（日）15:00 – 17:00
申請締め切り：
募集期間：2017年3月1日から31日まで
審査結果発表：2017年5月1日（月）
応募に際してのガイドライン
- １８歳以上のすべてのアーティストが応募可能です。
- 版画及び本には木版画の要素が含まれていなければいけません。この展覧会は国際木版画会議の使命である現代版画における伝統的木版画の結合を促進するものである。
- ２点まで応募可能です。
- 過去2年以内に制作された作品に限ります。
- 応募作品は、木版画作品の紙サイズは122cm x 122cm以内、アーティストブックは長辺45cm以内とします。
- 提出する画像はきちんと表示可能で、JPEG形式の最大2MB以内にする必要があります。
オンラインで応募する際には以下の情報を一緒に提出してください：アーティスト名、作品タイトル、制作年、技法、作品サイズ（インチで）、作品価格、それと作品についてのアーティストステイトメント 1,000文字（約１００語）以内。 - 2017年5月1日以降に選出されたアーティストに対して、通知と作品の配送方法についての連絡があります。
出品料：
出品料の50米ドルをオンラインサービスCaFÉを通して、Paypalまたはクレジットカードでお支払いください。
日本語での申請を希望される方は、指定の参加登録フォームをダウンロードし、必要事項を記入して下さい。（word） （pdf）記入した参加登録フォームは、下記のメールアドレス宛に添付して送信して下さい。その際、件名は「公募展—氏名」として下さい。
ho(a)mokuhanga.jp
※(a)を@に変更してください。
申請用紙を受領次第、本部事務局で請求書を作成し、PDFでお送りします。参加費は銀行振込でお支払いください。
国際木版画、木版絵本公募展 審査員
チャールズ コハン （Charles Cohan）
国際木版画２０１７ ハワイ実行委員会ホノルル現地共同委員長、ハワイ州立大学（マノア校 教授、アーム・ローラー・プレス所長、ホノルル、ハワイ、米国
カレン・クンク （Karen Kunc）
元国際木版画会議理事会会長、ネブラスカ州立大学リンカーン校 キャザー教授、コンステレーション スタジオのオーナー ディレクター、リンカーン、ネブラスカ、米国
ラルフ・キーグル （Ralph Kiggell）
国際木版画会議 ２０１５-２０１７年度理事、副理事長、アーティスト、教育家、英国/タイ
ヒロキ モリノウエ （Hiroki Morinoue）
国際木版画会議２０１７ ハワイ実行委員会会長、ドンキー ミル アート センター 共同創設者＆芸術監督、アーティスト; 教育家、米国
ダンカン デンプスター （Duncan Dempster）
国際木版画２０１７ ハワイ実行委員会ホノルル現地共同委員長、ホノルル・プリントメーカーズ （財団法人）事務局長、ハワイ州立大学マノア校 講師、ホノルル、ハワイ、米国
原 慶子 （Keiko Hara）
ワシントン州ワラワラ ウィットマン大学芸術学部名誉教授、アーティスト 、日本/米国
審査結果：2017年5月